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本发明涉及一种用于生产氮化镓晶体的反应釜的清洗装置及清洗方法。该清洗装置包括清洗工位、管路系统和控制系统,管路系统包括进水管、反应溶液输入管、输气管和排放管,进水管上设置有供水泵,供水泵能够将清洗水输送至反应釜的腔室中,反应溶液输入管上设置...该专利属于上海玺唐半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海玺唐半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明涉及一种用于生产氮化镓晶体的反应釜的清洗装置及清洗方法。该清洗装置包括清洗工位、管路系统和控制系统,管路系统包括进水管、反应溶液输入管、输气管和排放管,进水管上设置有供水泵,供水泵能够将清洗水输送至反应釜的腔室中,反应溶液输入管上设置...