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一种提高成膜稳定性的系统技术方案
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文档序号:20324594
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本发明提供提高成膜稳定性的系统,属于半导体制造技术领域,包括:臭氧发生器,所述臭氧发生器用于产生并输出臭氧;反应腔体,基于所述臭氧进行所述STI HARP成膜工艺;第一管路,用于将所述臭氧发生器输出的臭氧输送至所述反应腔体;臭氧处理器,用于...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。
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