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本发明公开一种图案化方法，包含在硬掩模层上形成第一间隙壁图案和第一周围图案，形成平坦化层覆盖第一间隙壁图案和第一周围图案，在平坦化层上形成第二间隙壁图案和第二周围图案，其中第二间隙壁图案和第一间隙壁图案部分重叠，第二周围图案和第一周围图案完...该专利属于联华电子股份有限公司;福建省晋华集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过联华电子股份有限公司;福建省晋华集成电路有限公司授权不得商用。