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本发明公开了一种测试结构和测试方法，所述测试结构包括N层金属层，N为大于或等于2的整数，所述N层金属层包括至少一层具有第一金属线的第一类金属层和至少一层具有两条以上间隔排列的第二金属线的第二类金属层；位于相邻的两层金属层之间以及同层相邻的两...该专利属于中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。