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本发明涉及一种铁掺杂的非晶态碳薄膜及其制备方法，包括以下步骤：(1)预处理：将铁片作为基底材料进行打磨抛光处理后，清洗吹干后粘贴在真空室的样品架上，以碳线作为蒸发源，连接电极；(2)镀前准备：将真空室抽真空，并调整靶基距；(3)蒸镀：在惰性...
该专利属于同济大学所有，仅供学习研究参考，未经过同济大学授权不得商用。

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