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本实用新型公开了一种等离子体刻蚀机。该等离子体刻蚀机包括：反应舱、观察窗、显微镜。该反应舱用于采用等离子体对被刻蚀样品进行刻蚀，该被刻蚀样品平放于所述反应舱内。观察窗被配置于所述反应舱的舱体上表面，通过该观察窗能够从上至下的方向观察所述反应...该专利属于北京智芯微电子科技有限公司;国网信息通信产业集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京智芯微电子科技有限公司;国网信息通信产业集团有限公司授权不得商用。