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本发明涉及一种气敏涂层材料及其制备方法，属于半导体涂层材料领域。采用等离子喷涂技术，在金属氧化物半导体材料表面喷涂覆盖气敏涂层，通过机械手在材料表面一次形成多孔涂层。制备出的多孔涂层的孔状结构增加了金属氧化物半导体的比表面积，对气体的灵敏度...
该专利属于昆明理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过昆明理工大学授权不得商用。

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