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本实用新型公开了一种用于减少制造半导体器件时缺陷的晶片抛光系统，其结构包括抛光磨盘、预热装置、液压缸、显示屏，抛光磨盘的上方设有预热装置，预热装置包括起热器、导温板、移动触点、弹簧、铁块、电磁铁、导液管、控制器、感温器，起热器的下方设有导温...
该专利属于南京原磊纳米材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南京原磊纳米材料有限公司授权不得商用。

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