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本发明涉及用于在后期制造阶段中图案化晶体管元件的有源区的技术。当图案化用于复杂半导体器件的有源区时，可以在后期制造阶段中执行先前沿第一横向方向图案化的有源半导体区域的切割，以获得狭长的半导体线。也就是说，可以在图案化至少一部分栅电极结构之后...
该专利属于格芯公司所有，仅供学习研究参考，未经过格芯公司授权不得商用。

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