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本发明提供了一种计算机硅片高效清洗工艺，包括如下步骤：分子型杂质清洗、离子和原子型杂质清洗、干燥处理。本发明的有益效果在于：通过擦洗可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜；高压喷射的清洗液在清洗的同时，使得片子不易产生划痕和损伤；超声波清洗...
该专利属于江苏又一城智能科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏又一城智能科技有限公司授权不得商用。

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