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本实用新型实施例提供一种光刻照明装置及曝光系统，包括：同光轴设置并依次排列的第一衍射光学元件、变焦镜组、第二衍射光学元件、会聚镜组和匀光单元，所述光刻照明装置还包括位于匀光单元远离会聚镜组一侧的中继镜组；经过所述第二衍射光学元件的光束的远场...
该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。

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