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本实用新型公开了一种在真空环境中进行离子溅射镀膜工艺中使用的挡板，包括真空镀膜腔室、等离子发射装置、辅助等离子发射装置、转盘和靶材，所述等离子发射装置设置于真空镀膜腔室的一侧，等离子发射装置的发射口对准转盘，所述转盘设置于真空镀膜腔室的内部...
该专利属于定西中庆玄和玻璃科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过定西中庆玄和玻璃科技有限公司授权不得商用。

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