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一种半导体元件的制造方法，包含以下步骤。首先，形成磊晶层于基板上。然后，形成体区于磊晶层的上半部分。接着，形成第一沟渠于磊晶层中。之后，依序形成第一介电层、第二介电层以及第三介电层于磊晶层上，其中第三介电层形成第二沟渠，第二沟渠位于第一沟渠...
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