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本发明公开了基片的定点离子注入装置及注入方法，装置包括控制单元、真空腔室、基片定位装置和机器视觉系统，基片定位装置包括基片座、掩盖板、第一X轴移动机构、第二X轴移动机构、第一Y轴移动机构和第二Y轴移动机构，基片座设于第一X轴移动机构上，掩盖...
该专利属于中国电子科技集团公司第四十八研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第四十八研究所授权不得商用。

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