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本发明揭示了光致抗蚀剂剥离剂，包括如下质量百分比组分，胺系化合物10‑25％，极性溶剂55‑75％，防腐蚀剂0.5‑1.2％，水10‑20％。本发明具有合适配比组分的光致抗蚀剂剥离剂有利于其在集成电路、半导体装置或液晶显示器中的应用。...
该专利属于苏州恒康新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州恒康新材料有限公司授权不得商用。

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