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本发明提供一种清洗平台以及清洗方法，在去除基板表面的有机颗粒之后，针对在去除有机颗粒时形成的金属离子也进行了清洗，在清洗金属离子之后才进入药液单元去除金属薄膜表面的非中性物质；由于在进入药液单元之前，将金属薄膜表面的金属离子进行了清洗，这样...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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