下载半导体结构及其形成方法、半导体存储器件的技术资料

文档序号:20162988

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种半导体结构及其形成方法、以及具有该半导体结构的半导体存储器件,该半导体结构包括:具有浅沟槽隔离结构的衬底,所述衬底表面具有多个沟槽;P型阱区,形成于所述衬底的底部;多个栅极组件,形成于所述多个沟槽内,每个栅极组件的一侧为源区,...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。