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半导体结构及其形成方法、半导体存储器件技术
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文档序号:20162988
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本发明提供一种半导体结构及其形成方法、以及具有该半导体结构的半导体存储器件,该半导体结构包括:具有浅沟槽隔离结构的衬底,所述衬底表面具有多个沟槽;P型阱区,形成于所述衬底的底部;多个栅极组件,形成于所述多个沟槽内,每个栅极组件的一侧为源区,...
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