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一种半导体装置的制造方法，包括以下步骤：形成一栅极结构于一半导体基板上；再使用定义有两个透光区的一遮罩，以光刻制造工艺形成具有两个开口部的一光阻层于上述半导体基板上；其中，上述光阻层位于上述两个开口部之间的一第一光阻层对准上述栅极结构而形成...
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