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本发明涉及半导体设备制造技术领域，公开了一种离子植入机及离子植入方法，其中，离子植入机包括：离子源，用于射出离子束；磁场装置，接收从离子源射出的离子束并改变该离子束的方向；工艺腔，用于接收从磁场装置射出的离子束。并且，离子植入机还包括设置在...
该专利属于德淮半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过德淮半导体有限公司授权不得商用。

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