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本发明属于柔性电子器件技术领域，并具体公开了一种耐疲劳性柔性电子器件的制备方法及产品。所述方法包括S1：在辅助基底上刻画电极材料的形状结构，得到电极图案化薄膜结构；S2：在所述电极图案化薄膜结构的周围构建电极材料可活动通道；S3：在所述可活...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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