温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请提供的清洗终点监测方法以及清洗终点监测装置，包括：对反应腔室中的载板进行清洗将预设光线射入至载板的预设位置上，判断预设光线对应的反射光线是否满足预设条件，若反射光线满足预设条件，则结束对载板进行清洗。通过判断预设光线对应的反射光线是否...
该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。