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用于减少阈值移位的氮化硅工艺制造技术
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下载用于减少阈值移位的氮化硅工艺的技术资料
文档序号:20123025
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半导体装置(100)具有衬底(102),所述衬底(102)具有半导体材料(104)。所述半导体装置(100)在所述半导体材料(104)中及在所述半导体材料上包含场效应晶体管(106)。所述场效应晶体管(106)具有位于所述半导体装置(100...
该专利属于德州仪器公司所有,仅供学习研究参考,未经过德州仪器公司授权不得商用。
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