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本申请涉及制备真空绝缘玻璃窗单元的方法。在所述方法中，最终边缘密封高度变化优选是等于或小于0.20mm，更优选是等于或小于约0.15mm。控制最终边缘密封高度变化，可在真空泵送玻璃基片之间的腔时减少VIG窗组件的玻璃基片的破损。边缘密封高度...
该专利属于佳殿工业公司所有，仅供学习研究参考，未经过佳殿工业公司授权不得商用。

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