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本发明公开一种膜质检测装置及其制作方法和检测方法,涉及显示技术领域,以保证绝缘层的膜质性能较好的情况下,减少形成绝缘层时金属层的氧化强度。该膜质检测装置包括衬底基板和设在衬底基板上的至少一个电容,每个电容包括依次层叠设置的第一金属层、中间绝...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开一种膜质检测装置及其制作方法和检测方法,涉及显示技术领域,以保证绝缘层的膜质性能较好的情况下,减少形成绝缘层时金属层的氧化强度。该膜质检测装置包括衬底基板和设在衬底基板上的至少一个电容,每个电容包括依次层叠设置的第一金属层、中间绝...