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本实用新型涉及等离子体技术领域，尤其涉及一种离子源以及镀膜装置。通过对离子源的结构进行改进，能够提高管道内壁的等离子体溅射镀膜的成膜均匀性。一种离子源，包括：发射电极；发射电极为柱状；阴极靶材，阴极靶材为中空柱状结构，且中空柱状结构套设于发...
该专利属于新奥科技发展有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过新奥科技发展有限公司授权不得商用。

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