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本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，所述方法包括以下步骤：在制备有栅极、栅绝缘层、源漏极以及钝化层的基板上制备一层光刻胶；对所述光刻胶进行曝光，形成间隔的光刻胶完全去除区域以及光刻胶部分保留区域，所述光刻胶部分保留区域对应于形成第...
该专利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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