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本发明公开了一种改善高深宽比图形不一致和提高光刻胶形貌陡度的方法，主要包括：读入初始GDS文件中所有层次版图原始设计数据和特定图形的具体所在位置；根据该层次与其它参考层次的位置信息，确定最小的设计单元，从而得出需要添加的Dummy图形和SR...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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