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一种光刻方法、柔性基板的制备方法以及光刻胶烘干装置。该光刻方法包括：提供形成有待刻材料层的衬底基板，该衬底基板包括中间区域和围绕中间区域的周边区域；在衬底基板上涂覆一层光刻胶，该光刻胶涂覆在中间区域和周边区域中；烘干光刻胶，同时对涂覆在周边...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司授权不得商用。