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本发明公开了一种提高后仿真结果准确性的方法及系统，所述方法包括如下步骤：步骤S1，提取出版图中MIM CAP图形的周长与面积，将MIM CAP图形作为矩形利用周长与面积建立方程，根据所建立的方程计算该MIM CAP图形的长与宽；步骤S2，将...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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