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本发明用于提高等离子体处理的膜形成的面内均匀性。一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：电极板，设置于反应容器内；对置电极，在所述反应容器内与所述电极板对置而平行地配置；传输路径，从所述电极板的与所述对置电极不对置的非对置侧连接，从所述反应...
该专利属于核心技术株式会社;株式会社ASKAGI所有，仅供学习研究参考，未经过核心技术株式会社;株式会社ASKAGI授权不得商用。

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