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本发明涉及一种含倍半硅氧烷组合物，其包含倍半硅氧烷树脂和式(II)的甲硅烷基酐(参见说明书)，由所述组合物制备的产物，光致抗蚀剂组合物，其包含所述含倍半硅氧烷组合物和光酸产生剂，由所述光致抗蚀剂组合物制备的产物，其制备和使用方法，以及包含其...
该专利属于美国陶氏有机硅公司所有，仅供学习研究参考，未经过美国陶氏有机硅公司授权不得商用。

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