专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
珠海光宇电池有限公司
>
一种纳米多孔铜-硅负极片及其制备方法技术
>技术资料下载
下载一种纳米多孔铜-硅负极片及其制备方法的技术资料
文档序号:20009633
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种纳米多孔铜‑硅负极片及其制备方法,该纳米多孔铜‑硅负极片包括:集流体基体,所述集流体基体上具有若干纳米微孔,所述纳米微孔内沉积有硅。制备时,将铜合金箔进行预处理,去除铜合金箔中的非铜成分,得到具有若干纳米微孔的纳米多孔铜集流体;将纳米微...
该专利属于珠海光宇电池有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过珠海光宇电池有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。