下载一种多层量子点薄膜的制备方法及光电器件的技术资料

文档序号:20009265

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开一种多层量子点薄膜的制备方法及光电器件,其中,方法包括步骤:预先采用量子点溶液制备成第一层量子点薄膜;将第一层量子点薄膜放入HHIC反应器中并通入H2,H2电离后形成H等离子,通过H等离子使第一层量子点薄膜中的量子点交联;在第一层...
该专利属于TCL集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过TCL集团股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。