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本发明涉及显示领域,尤其涉及液晶显示器,具体涉及阵列基板的制造方法,该阵列基板的制造方法通过在现有技术中的去光阻和利用CVD设备进行化学气相沉积这两个步骤之间对玻璃基板上的图案化的金属线进行氧化处理来改善带有弧形的交叉金属结构产生的漏光现象...该专利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。
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