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本发明提供一种区域选择性修饰壳聚糖的方法，其特征是，先采用4‑甲基邻苯二甲酸酐对壳聚糖2‑位氨基进行保护，之后壳聚糖3,6‑位的氨基进行甲酸酯化反应，之后对壳聚糖2‑位氨基进行脱保护，最后对壳聚糖2‑位氨基进行酰基化，得到壳聚糖‑二(苯基氨...
该专利属于哈尔滨工程大学所有，仅供学习研究参考，未经过哈尔滨工程大学授权不得商用。

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