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本实用新型涉及晶片清洗用离心清洗脱水装置，包括清洗箱，清洗箱内从上到下依次设置有清洗腔、污水腔和净水腔，清洗腔正面设置有箱门，清洗箱顶部设置有驱动电机，驱动电机通过转轴连接有位于清洗腔内的转盘，转盘上设置有若干上下通透的晶片固定孔，晶片固定...
该专利属于嘉兴晶控电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过嘉兴晶控电子有限公司授权不得商用。

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