温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及半导体制造设备技术领域，公开一种扩散炉管及扩散炉，扩散炉管包括：炉管本体，内部形成硅片进行扩散反应的工艺腔室，工艺腔内设有用于供硅片经过的硅片流通区；至少一部分位于工艺腔室内的气体输送部件，用于将扩散气体输送至炉管本体内；气体输送...
该专利属于珠海格力电器股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过珠海格力电器股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。