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本实用新型涉及半导体芯片制造技术领域，尤其是一种GPP工艺光刻机，包括第一冷光源曝光箱、第二冷光源曝光箱和光刻台，两曝光箱为开口不漏光长方形箱体，且设有箱门、箱盖、散热口和热气排风接口，第一冷光源曝光箱开口对面箱壁设有对位孔并置于光刻台桌面...
该专利属于常州市华诚常半微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州市华诚常半微电子有限公司授权不得商用。

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