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本申请涉及溅射靶和溅射方法。特定而言，描述溅射靶和对于高度均匀的溅射沉积使用常规溅射靶以及本文中描述的溅射靶的溅射方法。...
该专利属于唯景公司所有，仅供学习研究参考，未经过唯景公司授权不得商用。

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