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具有低比导通电阻的分离栅VDMOS器件及制造方法技术
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下载具有低比导通电阻的分离栅VDMOS器件及制造方法的技术资料
文档序号:19906721
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本发明提供一种具有低比导通电阻的分离栅VDMOS器件及其制造方法,包括第一导电类型衬底、第一导电类型漂移区、第一导电类型buffer层、第二导电类型阱区、第一导电类型源端接触区以及第二导电类型接触区,元胞两侧设有伸入到第一导电类型漂移区内的...
该专利属于电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过电子科技大学授权不得商用。
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