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本发明提供了一种金属互连结构及其制作方法，所述方法包括：提供一衬底，在衬底上依次形成第一绝缘层与介质层，形成多个第一凹槽在介质层内，第一凹槽暴露出部分第一绝缘层，形成第二绝缘层，第二绝缘层覆盖第一凹槽的侧壁及底部，刻蚀第一凹槽内的第二绝缘层...
该专利属于武汉新芯集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉新芯集成电路制造有限公司授权不得商用。

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