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本申请公开了一种排气装置及干法刻蚀设备，排气装置包括排气泵和排气腔体，排气腔体中空且为一框体，排气泵连通排气腔体的中空部分，框体于待刻蚀件的放置位置的周边设置，框体的表面形成有多个排气孔，排气泵通过排气腔体排出待刻蚀件周围的气体。本申请通过...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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