温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型提供了一种清除装置和光刻设备，所述清除装置包括：吸附单元和负压通道；所述吸附单元位于一工件台表面，所述负压通道位于所述工件台内部，所述负压通道和所述吸附单元连通并向所述吸附单元提供负压，如果光栅面板含有浸液，则可以通过负压吸附予以...
该专利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备（集团）股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。