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本文的技术包括形成单层或多层芯轴，然后形成沿芯轴的侧壁延伸的一条或更多条材料线。芯轴材料的相对薄的部分以芯轴为基础延伸至彼此并在侧壁间隔物和其他填充材料下面延伸，从而在下层上形成芯轴材料的膜，这提供了图案化工艺中的蚀刻选择性的优点。因此，利...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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