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提供一种结构，具备：处理室，其至少由反应管和设置于该反应管的下部的炉口部构成；喷嘴，其设置于上述炉口部，并从上述炉口部立起至上述反应管内；气体供给系统，其设置于上述喷嘴的上游侧；遮断部，其构成为设置于上述气体供给系统与上述喷嘴的边界；以及控...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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