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本发明提供一种溅射靶材，其特征在于，即使不使用纯Ta也能够提高溅射靶材的强度，防止溅射时的裂纹及颗粒，并且能够防止溅射膜的组成不均。本发明提供的溅射靶材的特征在于，以at.％计含有35～50％的Ta，余量由Ni及不可避免的杂质构成，且仅由N...
该专利属于山阳特殊制钢株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过山阳特殊制钢株式会社授权不得商用。

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