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本发明提供一种含有In、Ta及Ti且高密度的氧化物靶材。本发明的溅镀靶材为含有In、Ta及Ti的氧化物的靶材，且Ta及Ti的含量分别以原子比(at％)计，满足Ta/(In+Ta+Ti)＝0.08～0.45at％、及Ti/(In+Ta+Ti)...
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