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本发明公开了一种具有抗菌性的高稳定抛光液，其特征在于由下列重量份的原料制成：SiO2溶胶占0.1％～20％，粒径为15～120nm，表面活性剂占1％～30％，络合剂占1％～30％，杀菌剂占0.1％～5％，pH调节剂占1％～2％，pH范围为7...
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