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一种掩模工艺和掩模板组。该掩模工艺包括：将第一掩模板与承载待图案化的基板的机台对位；利用第一掩模板在待图案化的基板上形成第一层结构和第一套刻补正图案；利用图像传感器和第一套刻补正图案进行补正；将第二掩模板与机台对位；利用第二掩模板在待图案化...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。