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本发明提供了一种像素限定层结构的制备方法，包括提供基板，在基板上间隔设置多个像素界定结构；配制聚噻吩衍生物溶液，将聚噻吩衍生物溶液涂布于基板和多个像素界定结构的上表面和侧表面，形成聚噻吩衍生物层；通过掩膜板使像素界定结构的上表面的聚噻吩衍生...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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